【产品名称】
产品简介:
处理气量:(1-1500)Nm3/h
压力:≤5.0Mpa
氢气纯度:≥99.9995%
露点:≤-70℃
含氧量:≤1.5ppm
广泛应用于:
熔硅单晶炉配套使用,激光器、溅射、半导体生产,气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。